Ο SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam είναι ένας απαλός, πλούσιος αφρός καθαρισμού με ιδανικό pH 5, ειδικά σχεδιασμένος για να αφαιρεί αποτελεσματικά μακιγιάζ, ρύπους και περίσσεια σμήγματος χωρίς να ερεθίζει ή να ξηραίνει την επιδερμίδα. Η φόρμουλα περιέχει φυσικές επιφανειοδραστικές ουσίες από καρύδα και λεπτή σκόνη μαγειρικής σόδας που απομακρύνουν απαλά αλλά αποτελεσματικά τις ακαθαρσίες και καθαρίζουν σε βάθος τους πόρους.
Με 10.337 ppm εκχυλίσματος Centella Asiatica, πλούσιο σε madecassic acid και asiaticoside, ο αφρός προσφέρει καταπραϋντική και αναπλαστική δράση, ενώ ενισχύει τη σύνθεση κολλαγόνου και συμβάλλει στην αναγέννηση του δέρματος. Το κιτρικό οξύ (AHA) απολεπίζει ήπια, βελτιώνοντας την υφή και τη φωτεινότητα της επιδερμίδας. Το υαλουρονικό νάτριο χαμηλού μοριακού βάρους ενυδατώνει σε βάθος, χαρίζοντας απαλότητα και ελαστικότητα.
Συστατικά που αγαπήσαμε:
- Centella Asiatica (10.337 ppm): Πλούσια σε madecassic acid και asiaticoside, συμβάλλει στην επούλωση, την αναγέννηση του δέρματος και την ενίσχυση της παραγωγής κολλαγόνου. Καταπραΰνει ερεθισμούς και κοκκινίλες.
- Κιτρικό Οξύ (3.000 ppm) :Ήπιο AHA που απολεπίζει απαλά τα νεκρά κύτταρα, βελτιώνει την υφή της επιδερμίδας και ενισχύει τη λάμψη του δέρματος.
- Υαλουρονικό Νάτριο: Υαλουρονικό οξύ χαμηλού μοριακού βάρους που ενυδατώνει σε βάθος και διατηρεί την ελαστικότητα και τη σφριγηλότητα του δέρματος.
Οφέλη:
- Αφαιρεί μακιγιάζ, ρύπους και σμήγμα χωρίς να διαταράσσει το pH του δέρματος.
- Καταπραΰνει και ενυδατώνει χάρη στο εκχύλισμα Centella Asiatica.
- Προστατεύει τον δερματικό φραγμό και βελτιώνει την υφή της επιδερμίδας.
- Ιδανικός για καθημερινή χρήση ακόμη και σε ευαίσθητο δέρμα.
- Σύνθεση με ασφαλή συστατικά EWG, χωρίς parabens, θειικά άλατα ή τεχνητά αρώματα.
Iδανικό για λιπαρό, ξηρό, μικτό και ευαίσθητο δέρμα.